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Auteurs > B > Besnard Aurélien
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Relations structure-conductivité électrique dans des films de chrome architecturés


Université de Franche-Comté / 03-12-2010
Besnard Aurélien
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Des films minces de chrome sont élaborés par pulvérisation cathodique DC magnétron. Les conditions expérimentales de pression et de température conduisent à une croissance colonnaire. La mise en oeuvre de la technique originale << GLAD > (GLancing Angie Deposition) permet de contrôler l orientation du substrat par rapport au flux de vapeur incident. Ainsi l architecture des colonnes constituant les couches minces est modifiée. Trois types de structures sont élaborés : des colonnes inclinées (1D) des structures zigzags (20) et des structures spiralées (BD). La texturation des substrats par un réseau de plots permet d organiser ces différentes architectures sur la surface. Les propriétés physiques de ces couches minces telles que la densité la rugosité et la résistivité électrique, sont affectées par la structuration des colonnes. L élaboration de ces architectures est réalisée en lien étroit avec une simulation Monte Carlo de la croissance de structures équivalentes. Cette double approche permet de mieux comprendre les mécanismes de croissance mis en jeu ainsi que les propriétés résultantes. Un modèle théorique est ensuite proposé pour prédire l évolution de la résistivité électrique des films minces à colonnes inclinées.

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